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各溅射靶距离可调)。分布在一个圆周上,各靶可独立/顺次/共同工作,磁控靶通水冷却,采用磁控靶在上,垂直向下溅射成膜,磁控靶RF、DC、MF兼容
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科技CIS4001国内含税价/人民币售后服务提供设备培训规格1.溅射靶头采用平面磁控靶设计;2.系统采用单片机等微处理器控制,全数字显示;3.彩色液晶屏显示
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电磁截止阀;放气阀:Φ10mm,电磁截止阀;靶材:铜靶材Φ4英寸报警及保护:对泵、磁控靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;完善的逻辑程序
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溅射靶及电源;配置2套2英寸永磁共焦磁控(强磁)溅射靶(靶角度、靶基距手动可调),向下溅射;预留1只靶位,磁控靶配有气动挡板结构;工作方式:各靶可独立/顺次/共同工作
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采购结果详细(202410102048)----中山大学申购单主题:矩形磁控靶申购单位:电子与信息工程学院(微电子学院)申购备注:原有配套3KW,AE射频电源一台
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JC-2024-00594竞采结果公告项目名称磁控靶阴极采购项目编号SUSTech-JC-2024
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JC-2024-00594延期公告项目名称磁控靶阴极采购项目编号SUSTech-JC-2024
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CB105592024001057成交总额:12092申购主题:双极旋片真空泵+2英寸磁控靶送货时间:发布竞价结果后7天内送达采购单位:暨南大学安装要求
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溅射靶及电源①配置2套3英寸永磁共焦磁控溅射靶(靶角度、靶基距手动可调),向上溅射;可以溅射磁性材料,磁控靶配有气动挡板结构;②工作方式:各靶可独立/顺次/共同工作
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04-2611:55:44基本信息:申购主题:双极旋片真空泵+2英寸磁控靶报价要求:国产含税发票类型:增值税普通发票付款方式:货到验收合格后付款送货时间
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膜面厚度偏差≤10%;镀膜辊工作温度:-15℃~25℃;薄膜端面对齐度:≤2mm;磁控靶数量:12只;磁控靶规格:100×1580mm;…其他详见招标文件技术规格书*交货地点
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采用SUS304优质不锈钢.;采用立式、圆柱体、气缸助力上翻盖结;★9、磁控溅射室磁控靶,直径2英寸永磁靶不少于3个;10、配独立挡板,防止交叉污染;★11
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采用SUS304优质不锈钢.;采用立式、圆柱体、气缸助力上翻盖结;★9、磁控溅射室磁控靶,直径2英寸永磁靶不少于3个;10、配独立挡板,防止交叉污染;★11
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其余各口采用无氧铜垫圈密封。真空室壁带有匀气环。前后开门结构。1.2磁控靶3台其中Ф2英寸圆形磁控溅射永磁靶射频和直流兼容,都可沿轴向在线(高真空工作环境下)手动移动
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其余各口采用无氧铜垫圈密封。真空室壁带有匀气环。前后开门结构。1.2磁控靶3台其中Ф2英寸圆形磁控溅射永磁靶射频和直流兼容,都可沿轴向在线(高真空工作环境下)手动移动
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3)不按竞价要求或合同约定履约的;(4)其他违反法律法规和采购规定的。采购商品:磁控靶材-Ru采购数量:1计量单位:件预算单价:18518技术参数及配置要求
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3)不按竞价要求或合同约定履约的;(4)其他违反法律法规和采购规定的。采购商品:磁控靶材-Ru采购数量:1计量单位:件预算单价:18518技术参数及配置要求
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1、球型结构,内尺寸约为SΦ500mm±10mm,不锈钢304材质;2、具有三个磁控靶枪工位,满足KurtJ.Lesker3英寸靶枪安装;3、有多2个观察窗口;真空度≤1×10
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其余各口采用无氧铜垫圈密封。真空室壁带有匀气环。前后开门结构。1.2磁控靶3台其中Ф2英寸圆形磁控溅射永磁靶射频和直流兼容,都可沿轴向在线(高真空工作环境下)手动移动
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可溅射强磁性铁磁材料,进口品牌或技术能力等同于Kurt.J.Lesker磁控靶的国产品牌套3合同生效后,成交供应商在6个月内完成安装及调试
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00人民币总价140000.00人民币主要技术参数1.磁控溅射系统1.1磁控靶数量:1个1.2磁控电源:1套1.3靶材尺寸:Ф50mm1.4磁控靶与基片的距离
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00人民币总价140000.00人民币主要技术参数设备主要配置:1.磁控溅射系统1.1磁控靶数量:1个1.2磁控电源:1套1.3靶材尺寸:Ф50mm1.4磁控靶与基片的距离
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采用(考夫曼型)射频离子源,无灯丝。选靶材利用率更高的方案。2.3.4★溅射形式:采用磁控靶与样片平行溅射模式。2.3.5★镀膜不均匀性:片内、片间≤±4%(Φ4英寸样品
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靶在下,向上溅射,具有单独溅射、轮流溅射、共溅射功能;、暴露大气下,磁控靶可手动调节共溅射角度;、500w全自动调谐射频电源(北京吉兆源
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可调距离大于等于25mm,有效均匀长度大于350mm。可镀钛、高温合金、镍、铜、铝等。9.磁控靶:4套。有效长度不小于350mm,靶材利用率65%以上,可兼容直流、中频
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最大可镀4英寸(Φ100mm)1片或者均布其它规格小片;基片台配挡板、旋转,加热;5)磁控靶及电源:2只2inch圆形平面靶,2台电源
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(1)外形具有304不锈钢方形前开门真空室腔体1套(内部尺寸400*450mm);(2)顶部具有2英寸磁控靶接口3套(并预留2个靶腔升级口);(3)磁控靶射频电源(500W)和直流电
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(1)外形具有304不锈钢方形前开门真空室腔体1套(内部尺寸400*450mm);(2)顶部具有2英寸磁控靶接口3套(并预留2个靶腔升级口);(3)磁控靶射频电源(500W)和直流电
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主要标的信息序号供应商名称货物名称货物品牌货物型号货物数量货物单价(元)1合肥聚盛真空科技有限公司2英寸磁控靶枪聚盛真空2寸3套12000五、评审专家(单一来源采购人员)名单:刘剑、单鹰
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(非铁钴镍材料),永磁靶,射频溅射与直流溅射兼容,靶内水冷,配置靶挡板组件,磁控靶与基片的距离约80mm。2、基片往复摆台1套,基片尺寸和数量
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可加0-200V负偏压,具有射频源等离子体基片清洗功能。3、每个沉积室至少配备3个磁控靶、2个射频电源和1个直流电源,3路工艺气体。4、真空传样机械手:线性耦合力≥160N
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不同镀膜时间的控制,进而实现多靶轮流溅射和共溅射;重要否1313、软件及功能:每个磁控靶可以单独根据样品的形状进行仿形扫描(限于两种样品),同时提供开放数据库
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4Pa;4.系统停泵关机12小时后真空度:≤5Pa;5.膜厚均匀性±5%。6.3英寸磁控靶3套,可溅射铁磁性材料,向上溅射或者向下溅射,靶基距可调:90mm-130mm
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3、冷却水循环系统,制冷功率大于1P;水流报警系统:2套(对分子泵、磁控靶有断水报警切断电源等相应功能);8.4、溅射室样品加热控温电源:1套(日本产控温表